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CVD,MOCVD專用氫氣發生器操作方便使用時只需打開電源開關即可產氫,使用后無需泄壓,直接關閉電源即可。可連續使用,也可間斷使用,產氫量穩定不衰減。
安全和簡便是300D高純氫氣發生器的主要特點,它替代了危險的高壓氫氣鋼瓶,根據需要適時適量地產生氫氣,保持氫氣儲存體積和安全性。
CVD(Chemical Vapor Deposition)和MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是兩種常用的化學氣相沉積技術,用于制備薄膜、涂層和納米材料等。
進口實驗室用氫氣發生器的工作原理主要基于水電解和化學反應兩個方面。在水電解中,通過通電將水分解為氫氣和氧氣。這個過程涉及到電解質的質子交換膜,其中陽極吸引氧離子,而陰極則吸引氫離子。當通入電流時,氫離子被還原成氫氣,而在陽極處,氧離子則被氧化成氧氣。